Количество страниц учебной работы: 22
Учебная работа № /2564. «Реферат Наноэлектроника
Содержание:
«СОДЕРЖАНИЕ
ВВЕДЕНИЕ……………………………………………………………………………………………3
1. ИСТОРИЯ РАЗВИТИЯ НАНОТЕХНОЛОГИИ……………………………………………4
2. ОСНОВНЫЕ ДОСТИЖЕНИЯ НАНОТЕХНОЛОГИИ………………………………….7
3. НАНОПРОВОДА…………………………………………………………………………………….14
3.1 ПОДВЕШЕННЫЕ НАНОПРОВОДА…………………………………………………..15
3.2 НАПЫЛЕННЫЕ НАНОПРОВОДА…………………………………………………….15
3.3 СВОЙСТВА НАНОПРОВОДОВ………………………………………………………..16
4. ПРИМЕНЕНИЕ НАНОТЕХНОЛОГИЙ ДЛЯ ЭНЕРГОСБЕРЕЖЕНИЯ……….17
ВЫВОДЫ…………………………………………………………………………………………………….21
СПИСОК ЛИТЕРАТУРЫ……………………………………………………………………………..22
СПИСОК ЛИТЕРАТУРЫ
1. Алексей Шаповалов, Алена Корнышева, Андрей Козенко, Наталья Гриб. Нанотехнологии зарядили энергией. – Газета «»КоммерсантЪ»» № 163(3739) от 08.09.2007;
2. Л. Уильямс, У. Адамс Нанотехнологии без тайн. Путеводитель. М.: McGraw-Hill (Перевод), 2010. — 365 с.
3. Нанотехнология — Википедия [Электронный ресурс]. – Режим доступа: http://ru.wikipedia.org
4. Марк Ратнер, Даниэль Ратнер. Нанотехнология: простое объяснение очередной гениальной идеи \ Nanotechnology: A Gentle Introduction to the Next Big Idea. — М.: «Вильямс», 2006. — С. 240.
5. Материалы Интернет-энциклопедии Wikipedia (http://Wikipedia.org);
6. Материалы новостного сайта Науки и разработки — R&D.CNews (http://rnd.cnews.ru/)
7. Материалы с сайта о нанотехнологиях #1 в России Nanonewsnet (http://www.nanonewsnet.ru)
8. Материалы с новостного сайта
(http://www.abok.ru/for_spec/articles.php?nid=4076)
»
Форма заказа готовой работы
Выдержка из похожей работы
) Монокристаллы арсенида галлия, легированные хромом, используют в инфракрасной оптике.
) Монокристаллы GaAs, легированные цинком или теллуром, применяют в производстве оптоэлектронных приборов.
1.2 Пористая матрица арсенида галлия и её структурные свойства
Пористый арсенид галлия получают путём электрохимического анодирования монокристаллического GaAs,В качестве электролита наиболее часто используются водные растворы фторводородной кислоты (HF), а также её смеси с соляной (HCl) и азотной (HNO3) кислотами.
Электрохимическое анодирование пластин может проводиться в гальваностатическом и потенциостатическом режимах,В первом случае через пластину GaAs пропускается ток постоянной на всём протяжении эксперимента амплитуды, в то время как при потенциостатическом режиме постоянным остаётся напряжение,Однако в силу причины низкой эффективности потенциостатического метода, в подавляющем большинстве экспериментов используется гальваностатический метод.
В результате реакции электрохимического травления на поверхности GaAs могут образовываться химические соединения типа , имеющие алмазоподобную форму кристаллиты , а при травлении в хлорсодержащем растворе ещё и .
В связи с тем, что процесс порообразования проходит при непосредственном участии дырок, а их концентрация в GaAs n-типа весьма мала, возникает необходимость создания дополнительных условий для их генерации,Чаще всего для этой цели применяют импульсный источник освещения, светом которого в процессе травления подсвечивается образец,
Пористому арсениду галлия, как и пористому кремнию, свойственно значительное увеличение площади поверхности — до 600 м2/см3,
В GaAs поры растут вдоль кристаллографического направления [111] (рисунок 1),Следовательно, в пластинах с ориентацией (111) поры растут перпендикулярно поверхности, а в пластинах с ориентацией (100) под углом ~35°.
Рисунок 1 — Перпендикулярный поверхности рост пор на пластине ориентации (111)
В зависимости от многих факторов (плотность тока, протекающего через образец, кристаллографическая ориентация пластины, тип проводимости, уровень легирования, состав и температура травителя, наличие или отсутствие подсветки, состояние поверхности), пористые слои могут весьма сильно различаться по своим структурным свойствам[14, 15].
В том случае, когда диаметр пор больше 50 нм, говорят о наличии макропористой структуры; при диаметре пор от 50 нм до 5 нм говорят о мезапористом слое, и в случае диаметра пор меньше 5 нм говорят о микропористой структуре слоя.
Для образцов p-типа, как показывают авторы работы [15], формирование на поверхности пор кристаллитов не наблюдается, как это было в случае некоторых образцов пористого n-GaAs,В то же время суммарное количество атомов кислорода, участвующих в формировании оксидных связей на поверхности нанокристаллов оказалось почти равным,Стоит отметить, что интенсивность фотолюминесценции в образцах пористого p-GaAs существенно ниже, чем в образцах пористого n-GaAs, а положение самого пика фотолюминесценции сдвинуто в красную область спектра,Структура пористого слоя p-GaAs менее однородная, размеры нанокристаллов колеблются в пределах от десятков до сотен нанометров,В случае n-GaAs размеры нанокристаллов и дисперсия значений среднего диаметра существенно меньше, чем в образцах p-GaAs.
Как указано в работе [13], при электролитическом травлении n-GaAs () в растворах HCl, начиная с плотности тока около на поверхности образцов образуется тёмная плотная плёнка, прочно сцепленная с подложкой»